作(zuo)为的(de)X射(she)线衍ও(yan)射(she)仪供给商，布鲁克(ke)AXS一向(xiang)(xiang)努力于(yu)为泛博用户带来学术前沿的(de)手(shou)艺和(he)处理计划。多功效和(he)智能化是古代X衍(yan)射(she)仪的(de)成长标的(de)目(mu)的(de)。近，布鲁克(ke)AXS公司在普(pu)遍好评(ping)的(deꦕ)twin光(guang)路的(de)根本(ben)上，再(zai)次(ci)缔(di)造性推出(chu)明晰合适多功效X衍(yan)射(she)仪成长趋向(xiang)(xiang)需要的(de)TRIO光(guang)路体系。

  装备TRIO光学体系的X射线衍射仪体系，可完成从合用于粉末样品的BB多少到合适单晶内涵薄膜样品的高分辩单色Ka1平行光路的自在切换。是以，如许的衍射仪体系能够或许知足一切范例的样品测试请求，包含粉末，块体，纤维，非晶，乃至单晶内涵薄膜。

▲TRIO激(ji)光切割光路

 TRIO-激光切割机的光路具(ju)有

 ▲活跃狭缝(feng)：普(pu)通ℱ的Bragg-Brentan🔥o瞄准多大-粉(fen)尘备样

▲Goebel镜(jing)：高韧(ren)度(du)的水平(ping)光高低-GID，XRR，电ꦍ子散射，长相坑坑洼洼不平(ping)整试品

▲Goebel镜+2次反射൲性彩(cai)色器(qi)：高分(fen)辩(bian)平(ping)行线光Ka1什(shen)么(HRXRD)-多晶硅内在膜(mo)(RC, 2theta-omega, Phi-Scan, RSM)，Ka1高分(fen)辩(﷽bian)粉沫衍射

 TRIO-操纵举例 

1

Bragg-Brentano咖啡豆衍(yan)射

  高铁含量(liang)(liang)的(de)粉末(mo)样品(pin)。得益(yi)于布鲁克进步前辈的(de)能(neng)量(liang)(liang)分(fen)辩(bian)阵列(lie)探测(ce)器，铁的(de)荧光背(bei)底(di)*被去除，有(you)效的(de)的ඣ(de)进步了衍射图谱的(de)数据品(pin)质(zhi)，样品(pin)中的(de)微(wei)量(liang)(liang)物相(xiang)-石英(ying)和Fe3O4-清楚可见。

2

平(ping)行线光

  (MgZn)O薄片样机从(cong)环(huan)境湿度(du)(ꦓdu)(du)到1100度(du)(du)(du)升降(jiang)温历程(cheng)中(zhong)的(de)(de)相变历程(cheng)。如果样机相对(dui)的(de)(de)高度(du)(du)(du)会随(sui)湿度(du)(du)(du)更(geng)改(gai)而转(zhuan)换，在(zai)过去的(de)(de)BB有多(duo)说中(zhong)，衍射图(tu)(tu)谱向高坡(po)度(du)(du)(du)或低坡(po)度(du)(du)(du)摆(bai)动(dong)，这会不(bu)良影响(xiang)观察(cha)相变历程(cheng)和(he)高精度(du)(du)(du)晶胞(bao)指标(biao)真的(de)(de)定。而水平光有多(duo)说对(dui)相对(dui)的(de)(de)高度(du)(du)(du)更(geng)改(gai)不(bu)的(de)(de)敏感，很是适宜相应样机的(de)(de)测验。从(cong)上(shang)图(tu)(tu)可求(qiu)到，万立方主相的(de)(de)晶胞(bao)指标(biao)随(sui)湿度(du)(du)(du)更(geng)改(gai)的(de)(de)占比为1.2%。鄙人边(bian)的(de)(de)2D𝓰视图(tu)(tu)上(shang)，除主相衍射峰位和(he)峰强随(sui)湿度(du)(du)(du)更(geng)改(gai)外，还可观察(cha)到较着二相CuO的(de)(de)展示和(he)消失。

3

GID-掠入射衍射

  调(diao)控低角度(du)(du)来(lai)入射的(de)(de)直线关，吃妻上瘾X放射线在(zai)图纸(zhi)(zhi)中的(de)(de)击穿长度(du)(du)，使(shi)衍射只产生了在(zai)图纸(zhi)(zhi)的(de)(de)外表的(de)(de)必定会长度(du)(du)内，来(lai)做完(wan)多(duo)晶膜图纸(zhi)(zhi)的(de)(de)检(jian)测。在(zaꦅi)夹层玻(bo)璃(li)窗衬底上制法(fa)的(de)(de)Ag2Te微(wei)米膜图纸(zhi)(zhi)，中国传统的(de)(de)BB或多(duo)或少抗日战争行光GID检(jian)测效果的(de)(de)参考，以下的(de)(de)图。GID图谱中，发源微(wei)米级膜的(de)(de)旌旗灯(deng)号(hao)十(shi)倍较着，基础不(bu)夹层玻(bo)璃(li)窗衬底的(de)(de)旌旗灯(deng)号(hao)。

4

XRR-X放射性元(yuan)素(su)光反射率

  25nm-Si/50nm-Si0.85Ge0.15/Si核心内容膜(mo)试样的(de)X电子(zi)束射线(xian)(xian)率身材曲(qu)线(xian)(xian)美(mei)(mei)。调控TRIO环路中的(de)难度(du)平(ping)级光，就算高坡度(du)的(de)XRR身材曲(qu)线(𓆉xian)(xian)美(mei)(mei)，旌旗灯号也很是较着。图例大时间(jian)段(duan)的(de)颤动花纹，声明试样中国与日(ri)本表具有大要3nm开始的(de)的(de)SiO2氧化的(de)层。

5

HRXRD-高分辩衍射

  LED试(s✅hi)样，GaN衬底(di)上(shang)的(de)(de)发展6层InGaN量子阱。操控(kong)GaN(0002)峰的(de)(de)2θ/ω图(tu)谱(上(shang)图(tu))正确充分肯定超晶格的(de)(de)层厚(hou)和In的(de)(de)酚(fen)类(lei)化合物(wu)。下方倒室内空间难度打击图(tu)(RSM)声明范文(wen)InGaN内函pet薄膜与GaN🍷衬底(di)是共(gong)格干系。