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更新时候:2023-06-27点击次数:1816

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电势诱(you)引退(tuღi)步(PID)是在(zai)氯化钠晶体(ti)硅部件(jian)中检查到的(de)较唐(tang)筛临界(jie)风险性的(de)退(tui)步情(qing)况产品之一。在(zai)深刻领会截流(liu)型P🐻ID(PID-s)的(de)基础逻辑等(deng)方面(mian)已(yi)收获了更(geng)大停顿。

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PID-s的工具急性子

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以下模子是由[1]提出的:

功能模块中(zhong)来源于的(de)(de)(de)(de)高场强因受(shou)Na+漂移(yi)依靠过程(cheng)中(zhong)SiNx层。钠阴(yin)(yin)离(li)子(zi)(zi)在SiNx/Si页面(SiOx)双重解聚,并装潢了(le)从(cong)叠缺(que)陷。pn结通过过程(cheng)中(zhong)高速装潢的(de)(de)(de)(de)聚积断层线的(de)(de)(de)(de)缺(que)点(dian)有哪(na)些的(de)(de)(de)(de)情况(kuang)被分离(liജ)(过程(cheng)中(zhong)1),其它的(de)(de)(de)(de),由于耗光区的(de)(de)(de)(de)缺(que)陷境况(kuang)的(de)(de)(de)(de)从(cong)组(zu)应用程(cheng)序,J02展现出(chu)(任(ren)务管理器2)。请了(le)解,Na阴(yin)(yin)离(li)子(zi)(zi)理应是产(chan)自Si外貌而非(fei)波(bo)璃。

是(shi)以(yi),模组的易更明(ming)智(zhi)前提在于于SiNx层和(heജ)磨砂玻璃和(he)EVA箔的电(dian)阻功率率。


对比医学文献:

[1] V. Naumann et al., The role of stacking faults for the formation of shunts during potential induced degradation (PID) of crystalline Si solar cells, Phys. Stat. Solidi RRL 7, No. 5 (2013) 315-318

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