微电子技术技术元器的功较在有很大水平上着重于于其多多晶体布置。高分辩率X电子束衍射（HRXRD）一种无损音乐阐发工艺，能或者是或者是或者是或者是以亚nm级的精确研究会总结多多晶体布置-即使是在非事情或人物状况发生下。回收利用勇于尝试室X电子束衍射仪经过过程中HRXRD研究会总结他们微米换算级面积的元器较为必备挑衅性，可能需要一株少于所存眷布置的X电子束束。

锆钛酸铅（PZT）滤波电玻璃容器在取得进步常见光电传奇装备和保障体系的好处及可以问题起着很多通常的影响。正因为其也能我以为我以为我以为我以为在交流电源和机械设备能中间改变，他们被中用需高计算精度、有节制和高效化精力改变的凭借中。楷模的典例构成微机械指标体系（MEMS）元件、压阻低压变压器、致动器和机械、振荡感知器、频率会产生器或如期器等。放肆此类元件反差层的的布置对达到正确的攻效特别一般。在本运用声明范文中，对外形尺寸大小大规模在50 μm的PZT电容（电解电容类）器为止了讨论。一些心胸宽广件即许要乘以20 μm的束斑外形尺寸大小，与此同时要有杰出人物的难度能力，以推动合理的勘界时期。

仪器设置装备摆设

▲图1：装备了HB-TXS的D8 DISCOVER

该标准由一些2.5 kW背景色度转靶XXx放X射线源（HB-TXS）组合，其铜阳极在50 kV和50 mA下神器任务。X自卑于100 μm规格长宽比的本质撤销的XXx放X射线被蒙特光电元器件封装条件反射。某些光电元器件封装再次发生一些在赤道标效果层面平形的Cu KαXx放X射线束，时候在测角仪中央轴径集焦至约180 μm。要也许也许也许充分再生利用一些2xGe (022a)暖色器得到高的的强度纯铜 Kα1Xx放X射线束，其赤道收敛度不同于0.013°。经途流程充分再生利用专用光柱收敛三倍器（UBC）准直器要也许也许也许规范图纸地方处的束斑规格长宽比。某些准直器经途流程磁铁工装夹具以μm级精确度器，并同意将整体2 mm×180 μm的束斑矫捷地变少至20 μm。在衍射束左边巧用了EIGER2 R 500K观测器，可即便即便即便即便在0D、1D和2D模式下结束勘界。在0D模式下工作通过具体步骤做好得体的视场可即便即便即便有效地规范经验。1D和2D模式于勘界倒易发展空间图(RSM)，并可即便即便即便规范心轴兑换积分市场。D8测角仪的次级激光切割光路滑槽许可证书连续wifi定位观测器，以无穷的三倍的使方向分辩率和视阈切合巧用的应该要。凭仗其模块化的观测器每隔检验效率，EIGER2观测器向来坚持学习切确校正。

一个高分辩率光学显微镜集成到丈量软件中，便于轻松定位至感乐趣地区，并以微米精度将样品切确地定位在X射线束中。
利用实例

一类检测设备设定成了对2um级木块进行薄膜和珍珠棉阐发的中请。其超卓的曝光度流量转化为小至20 μm的黑斑宽度下的超卓数据报告书产品，展现给夸越109 cps的积分换通量。本报告书它是经过了历程5个回收利用具体方法声明之上设定成配置摆放品质的卡能。

实例一

前一些事列展示了该使用准备陈设的高室内空间区域分辩率。采用带着20 μm针的孔的UBC准直器来界说打样定制形象的束斑规格。为了能能让达成20 μm或更小的束斑规格，针的孔目前座落在距打样定制5mm毫米处。打样定制由各种各样不同外型的网套直径为50 μm的硅锗衬底产生。为了能能让试探不同的衬底，预简化SiGe(004)旌旗灯号，并经途具体步骤倒映不同的X和Y，提供了衬底的室内空间区域外型。重大成就如图所显示 2 所显示。顶端两行描画了衬底的草图。期间两行出现了位置辉映的重大成就。却别衬底两者之间的却别清析屏蔽，有时候与衬底的总体目标（顶端两行）很是按照。可而你而你而你而你查看苹果手机到与非常的50μm圆型衬底的小精度，凸出了一类D8 DISCOVER设为的装备罢放的超卓位置分辩率。灵活运用全束斑图片厚度结束了第二点次去尝试。如下图所显示3所显示的事例所显示，灵活运用全束斑图片厚度能说不定说不定说不定在4分钟的时间内达成高的质量的数剧。

▲图2：直径为50 μm的差别外形的硅锗垫的表现图（上图）。利用20 μm束斑在（004）硅锗层峰的衍射前提下停止(X,Y)映照（中间一行）。

计划与丈量的叠加凸起了微米束的超卓空间分辩率。

▲图3：利用180 μm×2 mm线束环绕Si(004)反射停止的2θ/ω扫描：在不到5分钟的时候内，能够或许或许或许从一个2×2mm2的SiGe测试布局中取得高品质的数据。

用在硅衬底上的约125nm厚的Si(1-x)Ge(x) (x=21.7%)的单一层能够或许或许或许很好地诠释该丈量成果。

实例二

▲图4：PZT 电容器样品布局草图。

HB-TXS设备适用探讨会某种选址化的层层图纸，该图纸由累积在钛酸锶（STO）衬底上的100 nm钌(SRO)组成部分，在其上端制法了由250 nm锆钛酸铅（PZT）聚酯塑料膜和50 nm SRO楼层组成部分的50 μm大的选址。SRO层要如果你如果你如果你做为参比电极来施用电流电压并在世界任务运行下探讨会 PZT 聚酯塑料膜的选址本质特征。图5左侧图片文字显出了制法选址的高倍显微镜视图。要如果你如果你如果你看出 个100 μm的衬底和个 50 μm衬底的阵列。只为能让自然衬底的功能分区，再生利用了20 μm的束来优化网络PZT(103+)旌旗灯号。在约54°的入射角下，X放射性元素束的萍踪约为25 μm，十分充足小的光点束要可能可能可能切确地在衬底上或衬底相互之间开始侧量。只为能让声明范文超卓的空間分辩率，开始了(X,Y)倒映，效果如下图如图所示5右下方如图所示。

▲图5 左边：图案化测试布局的显微镜视图，显现100 μm和50 μm的布局。

右边：50 μm阵列的(X,Y)映照：利用20 μm尺寸的光束探测衬底时利用PZT(103+)旌旗灯号。

数据阐发与成果

▲图6：在50 μm衬底之间（左）和在一个50 μm衬底上（右）的STO(103+)反射的倒易空间映照。

侧量了环抱STO(103+)的二个倒易前景图，并下图6如图所示。一（靠右方）在50 μm PZT衬底彼此，第二名个（右方）在此中一衬底上。二个侧量均采用魔鬼司令倒易前景倒映手工艺停机：经过的过程在坚定检样的互相长期照相2Theta网页快照来记实RSM。一类手工艺将每一位图的侧量情况不断增加至约407分钟。在检样到检测器的隔断为290 mm时，EIGER2 R 500K在2Theta中笼盖偏角约14.7°，互相供应者约0.0145°的偏角分辩率。

在衬底(di)上拍摄的(de)(de)RSM清(qing)楚(chu)地显现了来(lai)自(zi)PZT层和顶部(bu)SRO电极(ji)的(de)(de)附加峰。与STO衬底(di)和底(di)部(bu)SRO电极(ji)的(de)(de)峰比拟(ni)，这两个(ge)峰都显现出(chu)较着的(de)(de)展宽(kuan)，标明(ming)更高(gao)的(de)(de)晶体(ti)镶嵌(qian)性ℱ。这致使更高(gao)的(de)(de)位错密度(du)，是以(yi)估计(ji)薄膜会（局部(bu)）弛豫。对PZT薄膜，峰位于（0.9584/2.8346）。这对应(ying)于晶格(ge)参(can)数(shu)a = 0.4133 nm和c = 0.4075 nm，与文献中报道的(de)(de)x≈0.46的(de)(de)PbZr₁₋ₓTiₓO₃粉末的(de)(de)晶格(ge)参(can)数(shu)值很是分歧。

对SRO层，峰价值分离为SRO下端(1/2.9643)和SRO边侧(0.9905/2.9866)。此类价值与享有 a≈0.3934 nm的万立方米米晶格的应力应变和弛豫的峰价值很是婚姻配对-假定泊松比ν=1/3的简洁明了万立方米米膨胀模具。晶格性能参数与享有a≈0.5567 nm /√2 = 0.3936 nm的SRO的伪万立方米米表现形式很是分岐。对来自五湖四海50 μm PZT电阻器的RSM止住了阐发，收获与文献综述中凸显的其他收获很是分岐。

应当夸大的是，这类范例的尝试凡是只能在同步辐射举措措施上停止，而不能在尝试室 X 射线体系上停止。
总结与论断

配备HB-TXS的D8 DISCOVER就是一种稳步发展的XRD试用室处理计划表，使用于贴膜阐发，区域分辩率低至20 μm市场规模：1）当传奇装备UBC散射抽选准直器时，就可以说不定说不定说不定达成约20 μm的束斑长宽比，许证在空间区域(X,Y)辉映中知晓地男朋友出轨50 μm的测试测试平面布置。

2）当以2 mm ×180 μm的(de)全束(shu)尺寸运转时，蒙特光学元件供(gong)给(ji)跨(kua)越𝐆(yue)2×10⁷ cps的(de)总(zong)通量(liang)。这类高的(de)强度使得能(neng)够或(huo)许(xu)或(huo)许(xu)或(huo)许(xu)或(huo)许(xu)在(zai)很短的(de)时候内对标准薄(bo)膜利用停(ting)止疾速丈(zhang)量(li𒁃ang)，比方(fang)掠入(ru)射衍射、X射线反射率、HRXRD和织构(gou)阐发。这一才能(neng)已经(jing)由过程对一个2×2 mm2的(de)硅锗衬底的(de)丈(zhang)量(liang)获得证实，只要(yao)不到5分钟便可实现(xian)数据搜集(ji)。

3）在具备50 μm衬底宽度的PZT电感器内以及3个电感器相互勘界了倒易服务器图(RSM)。RSM经营许可资料高精准度地肯定是区分膜的晶格参数值，如果会和和和从RSM中的峰宽导入文化内涵好品质。4）技能HB-TXS和EIGER2 R 500K测探器的D8 DISCOVER令已经只只限发送到辐射危害强化方案方案的毫米束再生利用被选为就能够。这相当大壮大了服务业和学术性界成功室的阐发就能够。

参考：

*）印刷品由布鲁克微米表面与计算学 X 放射线运营部展现给。**）合格品由 M. Nguyen 和 Y. Birkholzer，特文特大杀人案学 MESA + nm手艺人研讨会总结所实现供给充足。转裁于《布鲁克X放射性元素部门》公家号