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产物中间外表阐发离子源体系C60 20SC60-20S 阴阳离(li)子源标(biao)准
产物简介
产物分类
介绍：
C60-20S 离子源体系是一种(zhong)高机(ji)能离子束(shu)，设想(xiang)用于(yu🔯)溅射外表，具备较(jiao)小(xiao)的(de)毁伤(shang)和削减的(de)沿周(zhou)溅射效应。
C60-20S 离子源体系在高(gao)达20 kV的电(dian)压下任务，可有(you)效地(di🐈)溅(jian)射资料，且毁伤较小(xi💃ao)，无需从头(tou)堆积碳。
C60是XPS、AES和SIMS的实现进级配置文件，可在各种各样資料上评均溅射。
主要技术参数：
| 首要利用 | 溅射 |
| 光斑尺寸 | 100 µm |
| 扫描规模 | 4 x 4 mm |
| 能耗规模 | 5 – 20 kV |
| 电流规模 | 50 nA |
| 法兰至机头长度 | 142 mm |
| 保举任务间隔 | 50 mm |
| 电源装配 | 3U x 19’’ rack mountable unit |
| 电源请求 | 110-240VAC 13A 50/60Hz |
| 软件请求 | PC running Windows 10 or later |
| 集成法兰规格 | NW 63 CF |
特色:
◇ 电(dian)流量高(gao)密度高(gao)，蚀刻效率较快；
◇ 与(yu)单水(shui)分子(zi)束(shu)类比，🌃可核(he)减电(dian)学毁伤🌟；
◇ 区分文件和氯(l💎v)化(hua)钠(na)晶体趋向的溅射率意见分歧(qi)；
◇ 闸(zha)阀，易于(yu)极速维护保养；
◇ 源使用寿命；
利用范畴：
◇ 聚合物的高速、低化学毁伤蚀刻；
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