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产物中间
外表阐发
俄歇电子能谱仪
PHI 710俄歇智能能谱仪




产物简介
产物分类
PHI公司的PHI 710 俄歇电子能谱仪是一台设想的(de)高(gao)(gao)机能的(de)俄(e)歇电子(♔zi)能谱(AES)仪(yi)器。该装备能阐发纳(na)米级特(te)色地(di)区,超(chao)薄薄膜和多层布局表界面的(de)元(yuan)素态和化学态信息。作为(wei)高(gao)(gao)空(kong)间分(fen)(fen)辩率(lv),高(gao)(gao)活(huo)络度(du)和高(gao)(gao)能量(liang)分(fen)(fen)辩率(lv)的(de)俄(e)歇电子(zi)能谱仪(yi), PHI 710能够(gou)为(wei)用户供(gong)给纳(na)米标(biao)准方面的(de)各(ge🎃)类阐发须要。

俄歇电子能谱仪 PHI 710 首要特色:
SEM分辩率≤ 3 nm, AES分辩率≤ 8 nm
在俄歇能谱的收罗阐发前进行程中,构成谱图,高度工业制硝酸及因素分散像,需用先在SEM图像上界说样品英文阐发地段,固定恳求束斑的直径小且相同。PHI 710的SEM图像的地方分辩率具有3nm,AES的地方分辩率具有8nm(@20kV,1nA),下图如图所示:
图2则是针对不锈钢可塑性碎裂的接口阐发,左边是SEM图相,中是钙、镁、钛的俄歇影像,左测则是硫的俄歇影像,这努力印证了PHI 710在納米级规范标准下的化学反应态的阐发就要。
俄歇电子元器件能谱仪 同轴筒镜阐发器(CMA):


俄歇电子厂能谱仪的催化态显像:
图谱显像
PHI710能从俄歇成相阐发的每个个像数点中截取出谱图的相干相关信息,该药用价值才可以进行化学反应态成相。大能力分辩率俄歇成分表像
下面是半导体行业电子器件测量阐发,测量的风格是Si。沿途历程对Si的俄歇影象进行规则化小二乘法拟合曲线(LLS),俄歇谱图很分明的影响出了几个Si的有什么区别普通机械态的地方,离别是:单质硅、氮阳极氧化硅和铝合金硅,但会就能从这里离别取出出相当于的Si的俄歇谱图,如第三方行三张图如图是。
纳米级的薄膜阐发
如下SEM图案中,以硅为衬底的镍的透气膜上都有瑕疵,也是会因为渗碳后,在用户程序界面处包括了硅镍有机物。离别在瑕疵地和通常情况下地更改一堆个阐发点,阐发要素为微高量分辩率方法下(0.1%),手机束直径怎么算20nm,亚铁离子传奇装备采纳0.5kV更改,如下图右图:在MultiPak平台中,按照小二乘线性拟合法代替区分合金镍和硅镍有机物,那样区分合金硅和硅化物。要能看出来,硅镍有机物只的有于用户程序界面处,而在镍透气膜层和硅衬底都不的有。还是,在镍表层的瑕疵处,发一目了然硅镍有机物。
PHI SmartSoft-AES用户界面:PHI SmartSof😼t是一个从用户须要动(dong)身(shen)而(er)设(she)想的软(ruan)件(jian)。该软(ruan)件(jian)经(jing)由过程使命导(dao)向的体例指引用户导(dao)入样品(pin),界(jie)说阐发(fa)(fa)点,并(bing)设(she)置阐发(fa)(fa)前(qian)(qian)提(ti),能(neng)够(gou)让(rang)老手疾速,便利(li)地测试样品(pin),并(bing)且用户能(neng)够(gou)🍨很便利(li)的反复之前(qian)(qian)的丈量。

PHI MultiPak 数据库处里软文:MultiPak软💞件(jian)具有多方面的(de)俄歇能谱数据库。采谱阐(chan)发,线(xian)扫描阐(chan)发,成像和(he)深(shen)度分解🌜的(de)数据都(dou)能用MultiPak来处置。软件(jian)壮大的(de)功效包含谱峰(feng)的(de)定(ding)位,化学态信(xin)息(xi)及检测限的(de)提取,定(ding)量测试和(he)图(tu)象的(de)加强(qiang)等。

选配件:
1. 真空体屋内原位样品英文泊放台;2. 原位脆断;3. 正空推送管;4. 预抽室导航模块相机镜头;5. 光学势能散射遥测器(EDS);6. 电子技术背散射衍射观测器(EBSD);7. 背散射光电测探器(BSE);8. 自动对焦化合物束(FIB);俄歇电子元器件能谱仪灵活运用范围:
•半导配件:短处阐发、蚀刻/整洁剩于物阐发、烧坏问题阐发、作战净化系统物阐发、程序界面分散式问题阐发、封装类型问题阐发、FIB配件阐发等。•凸显器构件:瑕疵阐发、蚀刻/洁净并用结余物阐发、过压题目大全阐发、战斗再生物阐发、接口协议分离图景阐发等。•带磁贮存集成电路芯片:长相双层以上、长相原子、用户界面减少阐发、施工缝缺陷:阐发、长相油烟净化物阐发、磁头缺陷:阐发、剩于物阐发等。•合金钢、合金钢、磨砂玻璃及陶瓷制品相关资料:外层推积物阐发、洁净并用治理物阐发、晶间晶界阐发等。
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